氣氛爐介紹

氣氛爐是一種用于高溫處理材料的設(shè)備，主要用于淬火、回火退火,特殊材料燒結(jié)等工藝。它能夠提供高溫和特定的氣氛環(huán)境，以改變金屬材料的物理和化學(xué)性質(zhì)。

智能控溫氣氛爐，帶觀察窗

氣氛爐優(yōu)勢(shì)：

1、提高產(chǎn)品質(zhì)量和成品率

氣氛燒結(jié)爐是一種具有穩(wěn)定燒結(jié)環(huán)境的熱處理裝備。利用氣氛燒結(jié)爐可以控制燒結(jié)過(guò)程中的氣氛組成，使其達(dá)到最佳狀態(tài)，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量和成品率。相對(duì)于傳統(tǒng)的熱處理設(shè)備，在氣氛燒結(jié)爐中，產(chǎn)品的熱處理過(guò)程相對(duì)更加均勻和穩(wěn)定，因此燒結(jié)后的產(chǎn)品具有更高的密度和結(jié)晶度，同時(shí)也能更好地保持其形狀。

2、減少環(huán)境污染

在傳統(tǒng)的熱處理設(shè)備中，由于燃燒產(chǎn)生的廢氣不易排放，常常造成環(huán)境污染。而在氣氛燒結(jié)爐中，通過(guò)控制燒結(jié)氣氛中的氣體成分和壓力，增加廢氣處理裝置，可以減少?gòu)U氣排放的污染程度。同時(shí)，燒結(jié)過(guò)程中，不產(chǎn)生液體廢物，可以降低廢物的處理難度和成本。

3、操作難度小

相對(duì)于傳統(tǒng)的熱處理設(shè)備，氣氛燒結(jié)爐的操作難度要小得多。操作者只需簡(jiǎn)單設(shè)置和調(diào)整，就能夠?qū)崿F(xiàn)精確的氣氛組成和溫度控制，確保產(chǎn)品能夠達(dá)到最佳的燒結(jié)效果。此外，氣氛燒結(jié)爐加PLC后，的動(dòng)化程度較高，不僅可以減少人工干預(yù)的影響，同時(shí)還能大大降低操作者的勞動(dòng)強(qiáng)度。

4、適用范圍廣

氣氛燒結(jié)爐在材料加工和制造行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用。尤其是在粉末冶金、陶瓷制造、耐火材料制造等領(lǐng)域中，氣氛燒結(jié)爐無(wú)疑是一種最為理想的熱處理設(shè)備。此外，其在高溫合金加工、精密鑄造和航空航天等領(lǐng)域中也有著重要的地位。氣氛爐氣氛環(huán)境

1.真空環(huán)境:在真空環(huán)境下進(jìn)行高溫處理可以避免金屬材料表面的污染和腐蝕。

2.氧化環(huán)境:在氧化環(huán)境下進(jìn)行高溫處理可以使金屬材料表面形成一層氧化膜。

3.氮?dú)?氬氣環(huán)境:在氮化物環(huán)境下進(jìn)行高溫處理可以增加金屬材料的硬度和耐磨性，同時(shí)還可以防止金屬材料表面的氧化和脫碳。

氮?dú)夂蜌鍤鈪^(qū)別：

(1)兩者都是惰性氣體，只是氮?dú)鉀](méi)氬氣惰。氮?dú)饷芏群涂諝獠畈欢啵瑲鍤饷芏容^大，可以沉在底部，將空氣驅(qū)走。氮?dú)鈨r(jià)格便宜。

(2)純度不一樣。氮?dú)獾募兌葲](méi)有氬氣的高，同時(shí)含水量，氬氣也要少。

(3)氮?dú)獗葰鍤鈧鳠峥臁?/p>

(4)氮?dú)馐请p原子分子，氬氣是單原子惰性氣體，高溫的時(shí)候氮?dú)馊菀着c物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，故高溫1000多度以上時(shí)，多采用氬氣。

(5)一般1000度以下處理碳材料時(shí)，氮?dú)饣蛘邭鍤庑Ч疽粯印Ｈ绻菤錃鈿鍤饣旌蠚猓瑫?huì)帶走有機(jī)物中的部分含氧官能團(tuán)，并且一定的溫度下，即便沒(méi)有氫氣存在，含氧官能團(tuán)也會(huì)以某種形式分解掉的。

(6)氮?dú)庠诟邷貢r(shí)容易把反應(yīng)物物質(zhì)氮化，所以要求純度高的話還是選用氬氣吧。

氣氛爐應(yīng)用

1.汽車制造業(yè)：

用于淬火、退火等工藝，以改善汽車零部件的性能;

鉻鎳合金精密不銹鋼帶材在氫氣工藝氣氛下進(jìn)行再結(jié)晶或奧氏體化。CrNi 鋼需要高達(dá)1180℃的高溫退火和快速冷卻，以獲得完美的奧氏體晶粒而沒(méi)有晶界沉淀。在氫氣氣氛下進(jìn)行光亮退火的優(yōu)點(diǎn)，主要是能保持帶鋼表面的光滑和光亮。因此，在后處理過(guò)程中很少甚至不需要刷洗或拋光。最重要的是，與氧化表面退火材料相比，使用該方法材料的耐腐蝕性能有所提高。在氫氣氣氛中進(jìn)行熱處理比需進(jìn)行酸洗的氧化退火更加經(jīng)濟(jì)，因?yàn)樗嵯赐嘶鹦枰袷貒?yán)格的環(huán)境規(guī)定。

2.航空航天制造業(yè)：

用于生產(chǎn)航空發(fā)動(dòng)機(jī)零部件等高強(qiáng)度材料：

航空航天燃?xì)廨啓C(jī)工作溫度高達(dá)1 400~1 500℃，超過(guò)用于制造渦輪葉片鎳基合金的熔點(diǎn)。以熔模精密鑄造工藝，在葉片內(nèi)構(gòu)建復(fù)雜空腔并通入壓縮冷卻氣體是必要的降溫方法。陶瓷型芯是熔模鑄造的核心部件之一，而SiO2 是制備高質(zhì)量型芯的理想基體材料，也是工業(yè)生產(chǎn)中應(yīng)用最為廣泛的基礎(chǔ)材料。在空氣和氮?dú)鈿夥障逻M(jìn)行煅燒

3.電子制造業(yè)：

用于制造半導(dǎo)體器件和其他電子元件

在半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中，常常需要進(jìn)行高溫退火、燒結(jié)和晶體生長(zhǎng)等工藝，以提高器件的性能。真空氣氛爐可以提供無(wú)氧、無(wú)塵的環(huán)境，避免雜質(zhì)對(duì)器件性能的影響，同時(shí)通過(guò)控制爐內(nèi)的溫度和氣氛，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料性能的精確控制，從而提高器件的可靠性和穩(wěn)定性。

4.真空氣氛爐還在光學(xué)和光電子領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。

在光學(xué)鍍膜和光纖制備過(guò)程中，常常需要進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)和退火等工藝，以提高光學(xué)器件的透明度和光學(xué)性能。真空氣氛爐可以提供無(wú)氧、無(wú)塵的環(huán)境，避免雜質(zhì)對(duì)器件的影響，同時(shí)通過(guò)控制爐內(nèi)的溫度和氣氛，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)器件的精確控制，從而得到高質(zhì)量的光學(xué)器件。

5.真空氣氛爐還廣泛應(yīng)用于陶瓷工業(yè)

在陶瓷制品的生產(chǎn)過(guò)程中，經(jīng)常需要進(jìn)行燒結(jié)和熱處理等工藝，以提高陶瓷的致密度和力學(xué)性能真空氣氛爐可以提供無(wú)氧、無(wú)水的環(huán)境，避免雜質(zhì)對(duì)陶瓷材料的影響，同時(shí)通過(guò)控制爐內(nèi)的溫度和氣氛，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)陶瓷材料的精確控制，從而得到高質(zhì)量的陶瓷制品。

氣氛爐技術(shù)參數(shù)（支持定制）

1200度（電阻絲）氣氛爐參數(shù)

1400度（電阻絲）氣氛爐參數(shù)

1700度（電阻絲）氣氛爐參數(shù)

氣氛爐原理

1.氧化還原反應(yīng)

在氣氛爐中，通過(guò)控制進(jìn)出口的空氣流量和混合比例來(lái)調(diào)整爐內(nèi)的氧化還原環(huán)境。例如，在退火過(guò)程中，需要控制爐內(nèi)的空氣流量和混合比例，以減少被處理物品表面的氧化程度

2.氣體流動(dòng)

由于不同的氣體密度不同，在進(jìn)出口處形成了壓力差。這種壓力差會(huì)引起空氣在爐內(nèi)形成流動(dòng)，并改變爐內(nèi)的溫度和壓力分布。因此，在設(shè)計(jì)和操作過(guò)程中需要考慮這些因素。