高溫立式管式氣氛爐簡(jiǎn)介

高溫立式管式氣氛爐也叫做垂直開啟式管式爐,實(shí)驗(yàn)室用立式管式高溫爐。采用垂直結(jié)構(gòu)，反應(yīng)物料可以順暢地通過(guò)反應(yīng)區(qū)，立式結(jié)構(gòu)能使?fàn)t膛內(nèi)的溫度分布更加均勻。

高溫立式管式氣氛爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，30段可編程控制器，實(shí)現(xiàn)精確的溫度控制；

爐管可選擇配置耐熱合金、石英、氧化鋁等材料，以適應(yīng)不同的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)需求；

立式管式爐設(shè)備可在氣氛狀態(tài)、真空狀態(tài)下運(yùn)行，也可作為普通管式爐使用，適用于高校實(shí)驗(yàn)室及科研院所等單位。

高溫立式管式氣氛爐應(yīng)用領(lǐng)域

高溫立式管式氣氛爐是一種常用的實(shí)驗(yàn)型熱處理設(shè)備，具體應(yīng)用如下：

材料科學(xué)領(lǐng)域：用于新材料的研究與開發(fā)，包括納米材料、超導(dǎo)材料、陶瓷和復(fù)合材料的合成與燒結(jié)。

金屬退火與燒結(jié)：管式爐可以精確控制溫度，實(shí)現(xiàn)金屬或合金材料的退火、淬火等熱處理，改變其組織結(jié)構(gòu)和性能。

電池材料及化工領(lǐng)域：用于電池材料、納米相關(guān)材料的制備、高分子合成、催化劑制備以及化學(xué)反應(yīng)過(guò)程。

CVD化學(xué)氣相沉積：真空鍍膜，碳納米管制備，晶體硅基板鍍膜、粉末表面沉積的CVD實(shí)驗(yàn)等。